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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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14篇 您的检索式：作者名="Aidla A"
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1Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films from iodide precursor显示文摘Kukli K Aarik J Aidla A 2001Chemistry of Materials2001，13，1：1
2Anomalous effect of temper- ature on atomic layer deposition of titanium dioxide显示文摘Aarik J Aidla A Mfindar H 2000J Cryst Growth2000，220，4：1
3Atomic layer deposition of polycrystalline HfO2 films by the HfI4-O2 precursor combination显示文摘SUNDQUVIST J HARSTA A AARIK J KUKLI K AIDLA A 2003Thin Solid Films2003，427，：1
4Texture development in nanocrystalline hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition 显示文摘Aarik J Aidla A Mandar H etal 2000Journal of Crystal Growth2000，220，：1
5Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O:investigation of growth mechanism显示文摘AARIK J AIDLA A MANDAR H 2001Applied Surface Science2001，172，12：1
6Characterization of Titanium Dioxide Atomic Layer Growth from Titanium Ethoxide and Water显示文摘AARIK J AIDLA A SAMMELSELG V 2000Thin Solid Films2000，370，1：1
7显示文摘Aarik J Kukli K Aidla A 1996Appl Surf Sci1996，103，：1
8显示文摘Kukli K Aarik J Aidla A 1997Appl Surf Sci1997，112，：1
9显示文摘Aarik J Aidla A Uustare T 2002Appl Surf Sci2002，193，：1
10显示文摘Aarik J Aidla A Sammelselg V 2000Thin Solid Films2000，370，：1
11显示文摘Kukli K Aarik J Aidla A 1995Thin Solid Films1995，260，：1
12Texture development in nanocrystalline hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition 显示文摘Aarik J Aidla A Mandar H 2000Journal of Crystal Growth2000，220，：1
13Transmission electron microscopy studies of HfO2 thin films grown by chloride- based atomic layer deposition 显示文摘Mitchell D R G Aidla A Aarik J 2006Appl Surf Sci2006，253，：1
14Influence of Substrate Temperature on Atomic Layer Growth and Properties of HfO2显示文摘Aarik J Aidla A Kiisler A A 1999Thin Solid Films1999，340，12：1
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